超声波抛光有哪几种抛光方法：
1使用带磨料的工具进行研磨抛光，2使用游离态磨粒即粒状磨料和磨具进行研磨抛光。3干式研磨抛光，即用带磨料的磨具，或用磨具与游离态磨粒直接进行抛光加工。4湿式研磨抛光，加入专用研磨液或悬浮液，使磨屑及时排出，或产生有利于抛光作业的化学反应。 一般来说，使用同一种磨料，超声波抛光加工所能达到的极限粗糙度，不如手工抛光加工的低。因此，欲达到同级粗糙度，用超声波抛光法加工时，就需要选用比手工抛光工艺更细小一级的磨料。最后应当说明，超声波抛光过程的高频性，使专用磨具在被抛光表面产生出巨大的高速研磨抛光能量，故可快速地对高硬度的表面层进行抛光加工。对于要获得低粗糙度的半导体晶片，则可以用超声波增强的化学——机械抛光。
